測定顕微鏡 MKM
弊社独自のフォーカスターゲット搭載し、個人誤差が無く非接触な高さ測定が可能です。
各種測定ステージ、対物レンズをご用意し、様々な測定用途に対応します。
ターゲットマーク採用により高精度な高さ、段差測定が可能です。
各種ステージサイズ、倍率を選定しお客様の必要に応じて機種を選定して頂くことが可能です。
ステージ | 100×50mm、150×100mm、300×300特注対応 | ステージ分解能 0.5μm |
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レンズ | 5×、10×、20×、50×、100× |
実体顕微鏡
コストパフォーマンスに優れた実体顕微鏡。優れた解像度を実現。製造、検査用途に最適。各種スタンド、照明を選択可能。
MZ45/45T MZ60 | |
接眼レンズ | WF10×(視野数22)、15×、20×、25× |
ズーム倍率 | 0.65×~4.5× (ズーム比6.9:1) |
総合倍率 | 6.5×~45× (接眼10×時) |
実視野 | 34mm~5mm |
作動距離 | 対物1× 103mm、0.5× 163mm、0.75× 117mm、1.5× 45mm、2× 40mm |
鏡筒角度 | 45度 60度 |
照明装置 | リング蛍光灯照明 8W/110V リングLED照明3.5W |
スタンド | 標準スタンド 、大型スタンド、ユニバーサルスタンド ST-U1 透過照明付スタンド、自由可変スタンド |
補助対物レンズ | 0.5×、 0.75×、 1.5×、 2.0× |
本体重量 | 約1.5Kg |
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線幅測定機KLM
微小線幅測定が可能です。
画像処理による高精度、高再現性を実現
AF機能により自動測定
測定再現性 σ=0.5μm以下
ウエハ反り測定機
特殊な非接触センサーによりウエハの表面形状を測定します。
自動ステージとの組み合わせにより自動測定への対応も可能です。
半導体のプロセスにおけるウエハの反り管理に最適です。
詳細はお問い合わせください。
特注品対応
各種測定への特注品対応を致します。
測定内容、御予算に応じて装置提案致します。